芯片制造行业用超纯水
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设备型号
YB-CCS-001
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产水量
可根据用户要求而定
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适用范围
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;
2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;
3、实验室和中试车间用超纯水;
4、汽车、家电表面抛光处理;
5、光电子产品;
6、其他高科技精微产品。
产品介绍
芯片制造行业用超纯水设备全套系统自动化程度高，系统稳定性高。芯片制造用超纯水设备拥有完美的设计、卓越的品质、精良的施工质量，有效的去除水中的杂质、重金属离子、细菌等有害物质，出水水质符合电子工业生产用水需求。
工艺设计
水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。树脂截留水中的溶存离子。被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外。阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外。浓缩了的离子从废水流路中排出。无离子水从树脂/膜内流出。
设备特点
1、优质零部件组装，更加耐用。
2、可以随时增加膜的数量以增加处理量。
3、自我保护系统，故障急停。
4、复合膜拥有更高的分离率和透过率。
5、水利用高，能产生更多的可饮用水。
6、体积更小，使用工地面积小。
7、淡水即可冲洗符合膜。
8、部件更加耐用，长期无需维修。
9、液晶显示器用超纯水设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。
技术参数
电导率：2-10μS/cm（25℃）
PH值：6.5－9
水温度：5～35℃
总硬度：<0.5ppm
有机物：<0.5 ppm,TOC为零
氧化物：≤0.05ppm
铁、锰：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm
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